Fotomasken sind unverzichtbare Werkzeuge in der Halbleiterindustrie. Sie dienen als Vorlagen für die Übertragung komplexer Muster auf Substrate während der Fotolithografie. Präzision und Qualität dieser Fotomasken hängen stark von den verwendeten Substraten ab, die strenge Anforderungen an Ebenheit, Transparenz und thermische Stabilität erfüllen müssen.
Als globaler Hersteller von Spezialglas, wir sind spezialisiert auf die Lieferung von qualitativ hochwertigen Glas für Fotomasken- und Fotoätzanwendungen, mit fortgeschrittenen CNC-Glasbearbeitung, Schneiden, Schleifen und Polieren Unsere Glassubstrate werden häufig verwendet in TFT, IC, LCD, PDP, DOT und PCB-Maskenproduktion, wo Präzision, Klarheit und Oberflächenebenheit entscheidend sind.
Wir bieten beides Standard- und kundenspezifische Lösungen für Kunden aus der Elektronik-, Display- und Halbleiterindustrie und unterstützt Projekte, die enge Maßtoleranzen , ultraflache Glasoberflächen.
Anwendungen für Glas in Maskierungs- und Ätztechnologien
Unsere Substrate sind für den Einsatz in Umgebungen konzipiert, in denen optische Genauigkeit, Maßgenauigkeit und Haltbarkeit sind unerlässlich. Anwendungsfälle umfassen:
- TFT-Fotomaskenglas
- IC-Fotomasken-Glassubstrate
- LCD-Maske / Fotolithografie
- PCB-Fotoätz- und Bildgebungsmasken
- PDP-Fotomaskenglas
- DOT-Muster-Fotoätzung
Diese Branchen benötigen einheitliche Oberflächeneigenschaften, um hochauflösende Bildgebung, Schaltungsübertragung und UV-Fotolithografie.
Verfügbare Glasmaterialien für die Fotomaskenherstellung
Wir bieten eine breite Palette an Materialoptionen für unterschiedliche Leistungsziele, wie zum Beispiel Transparenz, chemische Beständigkeit, UV-Beständigkeit und thermische Stabilität.
| Glasart | Bester Anwendungsfall |
|---|---|
| Limettennatronglas | Kostengünstig; gut für Standard-Fotomaskenanwendungen |
| BOROFLOAT® 33 | Geringe Ausdehnung; ideal für Borofloat 33 Fotoätzglas |
| Borosilikatglas | Hervorragend geeignet für chemische Resistenz , optische Klarheit in der Fotoätzung |
| Pyrex®-Glas | Zuverlässige thermische Stabilität für hohe Temperaturen IC-Lithografie und F&E-Anwendungen |
| Quarzglas | Hohe UV-Durchlässigkeit; bevorzugt Quarzglas für die UV-Fotolithografie |
Hochmoderne Möglichkeiten zur Glasverarbeitung
Als Full-Service Glasbearbeitungsanlagebieten wir mehrere Verarbeitungsmethoden an, um die Branchenspezifikationen zu erfüllen:
Polier- und Schneideservice für Glas
Wir treten auf Präzision CNC-Schneiden, Kantenbearbeitung und individuelles Polieren mit exakten Toleranzen.
Flachschleifen / Polieren
Erreichen Sie niedrige TTV (Gesamtdickenvariation) und perfekt flache Oberflächen für genaue Ausrichtung der Fotomaske.
Beidseitiges und einseitiges Polieren
Abhängig von Ihrer Anwendung bieten wir beidseitiges Polieren für Parallelität oder Einseitenpolieren zum Kleben.
Oberflächenpolitur
Wir veredeln Glas zu ultraklare Glassubstrate mit geringer Rauheit, ideal für Mikrostrukturierung und Lithographieausrichtung.
Branchen und Kunden, die wir bedienen
Wir unterstützen stolz:
- Produktionsanlagen für Fotomasken
- Halbleiter-F&E-Labore
- Mikrostrukturierungssystemintegratoren
- Hersteller von Flachbildschirmen
- Unternehmen für die Präzisionsschaltungsabbildung
- Reinräume für Behörden und Universitäten
Ob Sie beschaffen individuell polierte Glaswafer or Quarz-Fotomaskensubstrate, unser Team sorgt dafür, dass Ihre Teile präzise gefertigt, sauber verpackt und weltweit pünktlich geliefert.
Warum Kunden uns für die CNC-Glasbearbeitung wählen
- In-house CNC-Bearbeitung für die Fotomaskenproduktion
- Fortschrittliche Messtechnik zur Überprüfung Ebenheit, Rauheit und Toleranz
- Materialberatung je nach Anwendung (UV, Laser, chemische Belastung)
- Niedrige Mindestbestellmenge und Prototyping-Unterstützung
- Reinraumgerechte Verpackung und Transport
- Fließende Kommunikation und schnelle Angebote
Von Borosilikatglas zum Fotoätzen zu ultraflache Glassubstrate Bei der Chip- und Display-Musterung werden unübertroffene Präzision und technischer Support geboten.
Fordern Sie noch heute Ihr individuelles Glas an
Wir akzeptieren technische Zeichnungen, Handskizzen und Anwendungsbeschreibungen. Egal, ob Sie produktionsbereit sind oder sich noch in der Forschung und Entwicklung befinden, wir unterstützen Sie mit schnellem Feedback und präziser Fertigung.
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