フォトマスクは半導体産業において不可欠なツールであり、フォトリソグラフィー工程において複雑なパターンを基板に転写するためのテンプレートとして機能します。これらのフォトマスクの精度と品質は、使用する基板に大きく依存しており、基板は平坦性、透明性、熱安定性に関する厳しい要件を満たす必要があります。

グローバルとして カスタムガラスメーカー、私たちは高品質の供給を専門としています フォトマスクおよびフォトエッチング用ガラス、高度な CNCガラス加工、切断、研削、研磨 当社のガラス基板は、 TFT, IC, LCD, PDP, DOT, PCBマスク製造精度、透明度、表面の平坦性が重要になります。
両方を提供します 標準およびカスタマイズされたソリューション エレクトロニクス、ディスプレイ、半導体業界のクライアント向けに、 厳しい寸法公差 の三脚と 超平坦なガラス表面.
マスキングおよびエッチング技術におけるガラスの応用
当社の基板は、次のような環境でも機能するように設計されています。 光学精度, 寸法精度, 耐久性 必須です。ユースケースとしては次のようなものがあります。
- TFTフォトマスクガラス
- ICフォトマスクガラス基板
- LCDマスク/フォトリソグラフィー
- PCBフォトエッチングおよびイメージングマスク
- PDPフォトマスクガラス
- ドットパターンフォトエッチング
これらの業界では、一貫した表面特性が求められます。 高解像度イメージング, 回路転送, UVフォトリソグラフィー.
フォトマスク製造に使用可能なガラス材料

当社は、さまざまなパフォーマンス目標に合わせて幅広い材料オプションを提供しています。 透明, 化学的耐久性, 耐紫外線, 熱安定性.
| ガラスタイプ | 最適な使用例 |
|---|---|
| ソーダライムガラス | コスト効率に優れ、標準的なフォトマスクアプリケーションに適しています |
| ボロフロート® 33 | 低膨張、理想的な ボロフロート33フォトエッチングガラス |
| ホウケイ酸ガラス | 優れた 耐薬品性 の三脚と 光学的透明度 フォトエッチング |
| パイレックス®ガラス | 高温でも信頼性の高い熱安定性 ICリソグラフィーと研究開発の用途 |
| 石英ガラス | 高い紫外線透過率が好ましい UVフォトリソグラフィー用石英ガラス |
最先端のガラス加工能力
フルサービスとして ガラス加工施設当社では、業界の仕様を満たす複数の処理方法を提供しています。
ガラスの研磨・切断サービス
実行します 精度 CNCの切断エッジ仕上げ、正確な許容差に合わせたカスタマイズされた研磨などを行います。
フラット研削 / 研磨
低いTTV(総厚さ変動)と完全に平坦な表面を実現し、正確な フォトマスクアライメント.
両面研磨と片面研磨
お客様の用途に応じて、 両面研磨 並列処理または 片面研磨 接着用です。
仕上げ研磨
ガラスを仕上げる 超透明、低粗さガラス基板、 理想的な マイクロパターニングとリソグラフィーアライメント.
当社がサービスを提供する業界と顧客
私たちは誇りを持ってサポートします:
- フォトマスク製造設備
- 半導体研究開発ラボ
- マイクロパターニングシステムインテグレーター
- フラットパネルディスプレイメーカー
- 精密回路イメージング企業
- 政府機関および大学のクリーンルーム
調達先が カスタム研磨ガラスウエハー or 石英フォトマスク基板弊社のチームはあなたの部品が 精密に作られた, 清潔に包装された, 世界中に時間通りに配達.
CNCガラス加工で当社を選ぶ理由
- 社内で フォトマスク製造のためのCNC加工
- 検証のための高度な計測技術 平坦性、粗さ、許容範囲
- 用途に応じた材料に関するアドバイス(UV、レーザー、化学物質への曝露)
- 低MOQ プロトタイピングサポート
- クリーンルーム対応の包装と輸送
- スムーズなコミュニケーションと迅速な見積もり
フォトエッチング用ホウケイ酸ガラス 〜へ 超平坦ガラス基板 チップやディスプレイのパターン形成に使用され、比類のない精度と技術サポートを提供します。
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技術図面、手書きのスケッチ、アプリケーション概要などを承ります。生産準備が整っている場合でも、まだ研究開発段階の場合でも、迅速なフィードバックと精密な製造でお客様をサポートいたします。
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