Glassubstrat för fotomask och fotoetsning

Som en global tillverkare av specialglas, vi är specialiserade på att leverera hög kvalitet glas för fotomask- och fotoetsningstillämpningar, med avancerad CNC-bearbetning, skärning, slipning och polering av glas kapacitet. Våra glassubstrat används flitigt inom TFT, IC, Display, PDP, DOToch Produktion av PCB-masker, där precision, tydlighet och ytjämnhet är avgörande.

Vi tillhandahåller båda standard- och kundanpassade lösningar för kunder inom elektronik-, display- och halvledarindustrin, och stödjer projekt som kräver snäva dimensionstoleranser och ultraplatta glasytor.

Användningsområden för glas inom maskerings- och etsningsteknik

Våra substrat är konstruerade för att fungera i miljöer där optisk noggrannhet, dimensionell precisionoch hållbarhet är viktiga. Användningsfall inkluderar:

• TFT-fotomaskglas
• IC-fotomaskglassubstrat
• LCD-mask / fotolitografi
• PCB-fotoetsning och avbildningsmasker
• PDP fotomaskglas
• DOT-mönster fotoetsning

Dessa industrier kräver konsekventa ytegenskaper för att stödja högupplöst bildbehandling, kretsöverföringoch UV-fotolitografi.

Tillgängliga glasmaterial för fotomasktillverkning

Vi erbjuder ett brett utbud av materialalternativ för olika prestandamål, såsom öppenhet, kemisk hållbarhet, UV-resistensoch termisk stabilitet.

Glastyp	Bästa användningsfallet
Soda Lime Glas	Kostnadseffektiv; bra för vanliga fotomaskapplikationer
BOROFLOAT® 33	Låg expansion; idealisk för Borofloat 33 fotoetsglas
Borosilikatglas	Utmärkt för kemisk resistans och optisk klarhet i fotoetsning
Pyrex®-glas	Tillförlitlig termisk stabilitet för höga temperaturer IC-litografi och FoU-användningar
Kvartsglas	Hög UV-genomsläpplighet; föredras kvartsglas för UV-fotolitografi

 

Spetskompetens inom glasbearbetning

Som en fullservice glasbearbetningsanläggning, erbjuder vi flera bearbetningsmetoder för att uppfylla branschspecifikationer:

Polering och skärning av glas

Vi utför precision CNC-skärning, kantbehandling och anpassad polering med exakta toleranser.

Planslipning / Putsning

Uppnå låg TTV (total tjockleksvariation) och perfekt plana ytor för exakta fotomaskjustering.

Polering på båda sidor och en sida

Beroende på din applikation erbjuder vi dubbelsidig polering för parallellism eller enkelsidig polering för bindningsanvändning.

Finiturpolering

Vi avslutar glaset till ultraklara glassubstrat med låg ojämnhet, idealisk för mikromönster och litografijustering.

Branscher och kunder vi betjänar

Vi stöder stolt:

• Tillverkningsanläggningar för fotomasker
• FoU-laboratorier för halvledare
• Integratörer av mikromönstersystem
• Tillverkare av plattskärmar
• Företag med precisionskretsavbildning
• Renrum för myndigheter och universitet

Oavsett om du köper in specialanpassade polerade glasskivor or kvartsfotomasksubstrat, vårt team ser till att dina delar är exakt tillverkad, förpackad rentoch levererad globalt i tid.

Varför kunder väljer oss för CNC-glasbearbetning

• In-house CNC-bearbetning för fotomaskproduktion
• Avancerad mätteknik för verifiering planhet, ojämnhet och tolerans
• Materialrådgivning baserad på tillämpning (UV, laser, kemisk exponering)
• låg MOQ och prototypstöd
• Renrumsvänlig förpackning och transport
• Flytande kommunikation och snabba offerter

Från borosilikatglas för fotoetsning till ultraplatta glassubstrat används i chip- och displaymönster, erbjuder vi oöverträffad precision och teknisk support.

Begär ditt specialdesignade glas idag

Vi accepterar tekniska ritningar, handskisser och applikationsbeskrivningar. Oavsett om du är redo för produktion eller fortfarande är under forskning och utveckling, finns vi här för att stödja dig med snabb feedback och precisionstillverkning.

Skicka oss dina krav idag och få en offert inom så lite som 24 timmar.